سال 5، شماره 1 و 2 - ( بهار و تابستان 1390 )                   جلد 5 شماره 1 و 2 صفحات 42-34 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Habibi M, Gheibi N, Nooroozi J, Naser Pour T, Jahani Hashemi H, Khosroshahi N et al . Effects of low-power laser irradiation on the growth of staphylococcus aureus with and without the presence of caffeic acid. Iran J Med Microbiol. 2011; 5 (1 and 2) :34-42
URL: http://ijmm.ir/article-1-179-fa.html
حبیبی مرضیه، غیبی نعمت الله، نوروزی جمیله، ناصر پور تقی، جهانی هاشمی حسن، دیوان خسرو شاهی نادر و همکاران.. اثر لیزر کم توان بر رشد استافیلوکوکوس اورئوس در حضور و عدم حضور کافئیک اسید. مجله میکروب شناسی پزشکی ایران. 1390; 5 (1 و 2) :42-34

URL: http://ijmm.ir/article-1-179-fa.html


1- 1) گروه میکروبیولوژی دانشگاه ازاداسلامی واحد علوم تحقیقات تهران
2- 2) مرکز تحقیقات سلولی مولکولی دانشگاه و گروه بیو فیزیک،دانشکده پزشکی،دانشگاه علوم پزشکی قزوین ، gheibi_n@yahoo.com
3- 3) گروه میکروبیولوژی دانشگاه، دانشکده پزشکی واحد تهران شمال
4- 4) گروه میکروبیولوژی، دانشکده پزشکی، دانشگاه علوم پزشکی قزوین
5- 5) گروه پزشکی اجتماعی، دانشکده پزشکی، دانشگاه علوم پزشکی قزوین
6- 6) مرکز تحقیقات سلولی مولکولی، دانشگاه علوم پزشکی قزوین
چکیده:   (12488 مشاهده)
زمینه و اهداف: استافیلوکوکوس اورئوس از عوامل مهم ایجاد عفونت در تمام جوامع بهداشتی درمانی است. استفاده بی رویه از آنتی بیوتیک ها در چند دهه اخیر منجر به پیدایش سویه های مقاوم این باکتری شده است. هدف از این مطالعه، تعیین اثرات لیزر بر روی استافیلوکوکوس اورئوس در عفونت های سوختگی انسان و مقایسه اثرات مهار کننده آن برر روی این باکتری در حضور و عدم حضور کافئیک اسید بود.
مواد و روش ها: در این مطالعه تجربی از نمونه زخم سوختگی ناشی از مواد آتش زا در مرکز درمانی شهید مطهری تهران، 10 سویه استافیلوکوکوس اورئوس جدا شد. سویه ها با روش های تشخیص مورفولوژی میکروسکوپی، بیوشیمیایی تعیین هویت شدند. حداقل غلظت مهار کننده (MIC)کافئیک اسید بر روی سویه های مذکور به روش رقت سازی (Macrodilution) تعیین شد. هر کدام از سویه ها به طور جداگانه تحت تاثیر کافئیک اسید و لیزر هلیوم نئون با طول موج 630 نانومتر و توان 2 میلی وات به مدت1 ،2 ،3 دقیقه قرار گرفتند. در گروه دیگر نیز سویه ها به طور توام با کافئیک اسید و لیزر تومار شدند. سپس سویه ها برروی محیط های کشت Blood Agar کشت داده شد و در گرمخانه 37 درجه به مدت 24 ساعت قرار داده شدند. تعداد کلنی ها با دستگاه شمارش کلنی (counter colony)شمرده شدند.در هر کدام از شرایط ذکر شده آزمایشات 24 ساعت قرار داده شدند.در هر کدام از شرایط ذکر شده آزمایشات سه بار تکرار شدند.برای کنترل کیفی از سویه استاندارد استافیلوکوکوس اورئوس (ATCC 25923)استفاده شد.داده ها به کمک نرم افزار SPSS و ازمون های Friedman Test ، T.test و غیر پارامتریک تجربه و تحلیل شد.
یافته ها: حداقل غلظت مهار کننده برای استافیلوکوکوس اورئوس 7 میلی مولار به دست آمد. لذا جهت بررسی اثر کافئیک اسید بر رشد باکتری از غلظت 6.5 و 6.75  میلی مولار (sub MIC) استفاده شد. شمارش کلنی ها کاهش معنی دار درصد کلنی در هر دو غلظت نسبت به هم و نسبت به گروه شاهد را نشان (P<0/0001). کاهش درصد تعداد کلنی ها در یک الگوی وابسته به زمان نیز در گروه های در معرض لیزر مشاهده شد و سطح معنی داری آنها نسبت به گروه P<0/0001 بود. استفاده توام از لیزر و کافئیک اسید تعداد کلنی ها را نسبت به گروه شاهد (P<0/0001) و نسبت به کافئیک اسید به تنهایی (P<0/0001) و یا لیزر به تنهایی (P<0/0001) کاهش معنی داری داشت.
نتیجه گیری:کاهش رشد استافیلوکوکوس اورئوس با کافئیک اسید یا لیزر مشاهده گردید. استفاده توام از لیزر کم توان هلیوم نئون به همراه کافئیک اسید اثر هم افزایی و موثرتر در کاهش تعداد باکتری در محیط ازمایشگاه نشان داد.
متن کامل [PDF 398 kb]   (4964 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: مواد ضد میکروبی
دریافت: 1392/9/9 | پذیرش: 1392/9/9 | انتشار الکترونیک: 1392/9/9

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
CAPTCHA

ارسال پیام به نویسنده مسئول


بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به مجله میکروب شناسی پزشکی ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق   ناشر: موسسه فرنام

© 2022 CC BY-NC 4.0 | Iranian Journal of Medical Microbiology

Designed & Developed by : Yektaweb Publishr: Farname Inc.